中国科学家 工程师们正在将现代芯片制造中最复杂、最昂贵的技术之一缩小到桌面尺寸，并用它来制造 14 纳米芯片。
而 14 纳米 筹码 不再代表尖端技术——商业代工厂已经进入 3 纳米领域——它们仍然是性能、成本和效率的最佳选择，为从工业自动化到电动汽车和智能可穿戴设备的一切提供动力。
在10月下旬的UltrafastX学术会议上，总部位于中国中部安徽省的合肥Lumiverse科技推出了极紫外（EUV）光源技术。
“我们专注于半导体检测和量子芯片制造。我们的一个工业客户已经利用这种光源来生产 14 纳米芯片，”该公司发言人本周表示。
EUV 光源是用于制造 7 纳米以下工艺芯片的光刻机的关键组件，但它们可能非常复杂、庞大且昂贵。
例如，行业领导者 ASML 的 NXE:3400B 长约 12 米（39 英尺），高 4 米。
